集成电路制造工艺中对刻蚀的要求包括：能得到想要的形状(斜面还是垂直图形)；过腐蚀最小(一般要求过腐蚀％，以保证整片刻蚀完全)；；均匀性和重复性好；表面损伤小和清洁